その他
日本酒製造
使用場所 | 酒造 |
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使用目的 | 漬透・蒸し・醪・割水(市水処理) |
装置の型番 | PNET-40000HG |
システム構成 | PNET-40000HG、原水タンク、前処理ユニット、瞬間・積算流量計等 |
制御 | |
生産水量 | 1.6t/h |
水質 | ≦5μS/cm |
バイオ工場
使用場所 | バイオ工場 |
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使用目的 | 濃縮処理 |
装置の型番 | PNET-24000aqHG |
システム構成 |
PNET-24000aqHG、瞬間・積算流量計等 |
制御 | |
生産水量 | 1.0t/h |
水質 | 10倍濃縮 |
工場内 厨房・食堂
使用場所 | 工場内 厨房・食堂 |
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使用目的 | 調理水・飲料水(市水処理) |
装置の型番 | PNET-3800NEO |
システム構成 | PNET-3800NEO、瞬間・積算流量計、送水ポンプ、1tタンク(SUS)等 |
制御 | |
生産水量 | 158L/h |
水質 | ≦20μS/cm |
素材メーカー
使用場所 | 素材メーカー |
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使用目的 | プラスチック精密洗浄 |
装置の型番 | PNET-14000NEO |
システム構成 | PNET-14000NEO、高精度水質センサー、タンク |
制御 | |
生産水量 | 583L/h |
水質 | 約5μS/cm |
精密部品工場
使用場所 | 精密部品工場 |
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使用目的 |
レンズ洗浄 |
装置の型番 | PNET-40000NEO |
システム構成 | PNET-14000NEO、イオン交換樹脂 |
制御 | |
生産水量 | 1.6t/h |
水質 | 約1μS/cm |
半導体工場
使用場所 | 半導体工場 |
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使用目的 | シリコン洗浄 |
装置の型番 | 純水装置(お客様要求仕様用に専用の設計) |
システム構成 | 純水装置(お客様要求仕様用に専用の設計)、イオン交換樹脂、高精度水質センサー |
制御 | |
生産水量 | 3.2t/h |
水質 | 17MΩ・cm |
電子部品メーカー
使用場所 | 電子部品メーカー |
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使用目的 | 実験用水 |
装置の型番 | PNET-20000NEO |
システム構成 | 純水装置(専用設計)、2系統ポンプ |
制御 | |
生産水量 | 833L/h |
水質 | 20μS/cm |